[发明专利]可实现透反双通道全息复用的超表面的设计方法有效
| 申请号： | 202010146927.1 | 申请日： | 2020-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN111258060B | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 郑国兴;付娆;李子乐;单欣;李仲阳 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 艾小倩 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可实现透反双通道全息复用的超表面的设计方法，该超表面由透明基底和刻蚀在透明基底上的纳米砖阵列构成，能够在透射和反射空间分别产生两幅全息图像，实现双通道全息复用，提高了信息存储的容量，两个通道既可以单独使用，也可以同时使用，二者相互独立且互不影响。本发明在光学信息的存储、显示、加密、防伪等领域有潜在的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 实现 双通道 全息 表面 设计 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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