[发明专利]一种匀化倍频光光场分布的装置有效
| 申请号： | 202010144501.2 | 申请日： | 2020-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN111338152B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 宗楠;温宁;王志敏;薄勇;彭钦军;许祖彦 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G02F1/355;G02F1/37;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 郑久兴 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种匀化倍频光光场分布的装置，包括：基频光模块(1)，用于提供基频光源；光束整形模块(2)，设置在基频光源的行进方向上，用于调整基频光源的尺寸；倍频模块(3)，其包括至少一个形成为曲面的通光端面，通光端面设置在调整尺寸后的基频光的行进方向上，以将基频光变频为倍频光。通过设计倍频晶体通光端面的曲面参数，可实现由高斯基频光经倍频晶体后直接输出平顶或近平顶倍频光，即实现倍频光光场分布的匀化。本发明结构紧凑、体积小，不需要多个装置，降低了系统的复杂性，并且其输出的匀化倍频光用于大能量激光变频技术中，可实现器件损伤抑制，提高变频光功率和能量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 倍频 光光 分布 装置 | ||
【主权项】：
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