[发明专利]一种原位常温制备垂直阵列结构二硫化锡的方法有效

专利信息
申请号: 202010129129.8 申请日: 2020-02-28
公开(公告)号: CN111268722B 公开(公告)日: 2023-05-26
发明(设计)人: 尹奎波;辛磊;郑安琪;熊雨薇;文一峰;朱明芸;李京仓;董麟;孙立涛 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: C01G19/00 分类号: C01G19/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 蓝霞
地址: 210018 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于纳米材料制造领域,特别涉及一种原位常温制备垂直阵列结构二硫化锡的方法。包括以下步骤:将普通层状二硫化锡经过超声分散至半碳膜上,并在透射电镜中用剐蹭锂金属的钨针尖去触碰二硫化锡并施加电压;会聚电子束对样品进行辐照得到垂直阵列结构的二硫化锡。该方法无需使用高温,无需其他有毒有害化学试剂,既简化了工艺又降低了生产成本。
搜索关键词: 一种 原位 常温 制备 垂直 阵列 结构 硫化 方法
【主权项】:
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