[发明专利]一种镭射标签的生产印刷工艺有效

专利信息
申请号: 202010112535.3 申请日: 2020-02-24
公开(公告)号: CN111186225B 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 古润洪;谢明伟 申请(专利权)人: 上海美美尚隽印刷有限公司
主分类号: B41M3/00 分类号: B41M3/00;B41M5/00;B41M5/382
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 谢绪宁;薛赟
地址: 200540 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及镭射标签印刷技术领域,公开了一种镭射标签的生产印刷工艺,包括:镭射机的模压工作面设有凸条与凹痕,在印刷膜上涂布转移剂,在镭射膜上放置吸附膜,吸附膜朝向镭射膜的一面不吸附镭射图案,在吸附膜上放置印刷膜进行模压,凸条与凹痕在印刷膜与镭射膜上压出定位痕,撕下吸附膜;在印刷膜上印刷UV油墨,在油墨层上涂布镭射模压涂料,涂有模压涂料的一面模压制作镭射点阵并覆盖镭射膜,印刷膜上的定位痕与镭射膜上的定位痕对应配合;揭去镭射膜,使镭射膜上的镭射图案转移到印刷膜上,镭射膜上的镭射图案上镀上一层镀铝;印刷膜与镭射膜之间能精确定位,油墨能够正确印在标签上,提高印刷加工的精度。
搜索关键词: 一种 镭射 标签 生产 印刷 工艺
【主权项】:
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