[发明专利]一种大面阵中波红外双视场光学系统有效

专利信息
申请号: 202010104569.8 申请日: 2020-02-20
公开(公告)号: CN111290103B 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 孙浩;高益;于兴;邓岩 申请(专利权)人: 北京华北莱茵光电技术有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18;G02B13/14;G02B15/15
代理公司: 北京天江律师事务所 11537 代理人: 任崇
地址: 100020 北京市朝*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种大面阵中波红外双视场光学系统,包括物镜组、中继组,物镜组同轴设置于中继组的前方;物镜组包括第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜且各透镜从前到后依序同轴设置;中继组包括第六透镜、第七透镜、第八透镜、第九透镜且各透镜从前到后依序同轴设置;中继组的后方同轴依序设置有探测器窗口、探测器滤光片,探测器滤光片用作光学系统光阑,探测器焦平面阵列位于探测器滤光片的后方且与其同轴。本发明提供了一款适配于2720×2720,像元尺寸15μm中波制冷型探测器的光学系统,本光学系统为成像器件提供了一个大像高,其像高值为φ57.7mm,同时满足双视场的高速切换,平均光谱透过率高。
搜索关键词: 一种 大面 中波 红外 视场 光学系统
【主权项】:
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