[发明专利]具有增强的缺陷抑制的酸性抛光组合物和抛光衬底的方法有效

专利信息
申请号: 202010085481.6 申请日: 2020-02-03
公开(公告)号: CN111471401B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 郭毅;D·莫斯利 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;B24B37/04;B24B37/24
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋;钱文宇
地址: 美国特*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种酸性化学机械抛光组合物,其包含具有正ζ电势的胶体二氧化硅磨料颗粒以及选择的烷氧基硅烷琥珀酸酐化合物以增强减少诸如二氧化硅和氮化硅的衬底的介电材料上的缺陷。还公开了用于用所述酸性化学机械抛光组合物抛光衬底以移除诸如二氧化硅和氮化硅的所述介电材料的一些的方法。
搜索关键词: 具有 增强 缺陷 抑制 酸性 抛光 组合 衬底 方法
【主权项】:
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