[发明专利]X射线干涉成像系统在审

专利信息
申请号: 202010084244.8 申请日: 2015-04-30
公开(公告)号: CN111166363A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 西尔维娅·贾·云·路易斯;云文兵;雅诺什·科瑞 申请(专利权)人: 斯格瑞公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01N23/207;H01J35/08
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 桑敏
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请提供X射线干涉成像系统。一种x射线系统包括:x射线源,x射线源包括:包括第一材料的基板以及至少多个离散结构,至少多个离散结构与基板热传递并被布置为离散结构的周期性图案中,多个离散结构包括响应于电子轰击产生x射线的第二材料;x射线相移光栅,x射线相移光栅包括被定位成用于衍射由所述离散结构的周期性图案产生的x射线,该x射线与x射线相移光栅交互以形成Talbot干涉图案;被配置为保持物体的台级;以及x射线检测器,x射线检测器包括二维阵列的x射线检测元件,x射线检测器被定位成用于检测由X射线相移光栅衍射并由物体扰乱的x射线。
搜索关键词: 射线 干涉 成像 系统
【主权项】:
暂无信息
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