[发明专利]成膜装置及半导体装置的制造方法在审
| 申请号： | 202010079373.8 | 申请日： | 2020-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN111485288A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 永冈达司;西中浩之;田原大祐;吉本昌广 | 申请（专利权）人： | 丰田自动车株式会社;国立大学法人京都工芸纤维大学 |
| 主分类号： | C30B29/16 | 分类号： | C30B29/16;C30B19/00 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 何冲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种在储存槽内使喷雾高效地产生的成膜装置。该成膜装置向基体的表面供给溶液的喷雾而使膜在所述基体的所述表面外延生长，该成膜装置具备：加热炉，收容并加热所述基体；储存槽，储存所述溶液；加热器，将所述储存槽内储存的所述溶液加热；超声波振动器，通过向储存在所述储存槽内的所述溶液施加超声波，从而在所述储存槽内产生所述溶液的所述喷雾；以及喷雾供给路径，将所述喷雾从所述储存槽输送到所述加热炉。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 半导体 制造 方法 | ||
【主权项】：
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