[发明专利]一种真空无压烧结制备Gd2在审

专利信息
申请号: 202010056324.2 申请日: 2020-01-18
公开(公告)号: CN111116199A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 谢忠祥;刘海艳 申请(专利权)人: 湖南工学院
主分类号: C04B35/50 分类号: C04B35/50;C04B35/48;C04B35/64
代理公司: 长沙明新专利代理事务所(普通合伙) 43222 代理人: 徐新
地址: 421002 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种真空无压烧结制备Gd2Zr2O7透明陶瓷的方法,特别是指采用复合烧结助剂,通过真空无压单步烧结的方法,在相对较低温度下实现Gd2Zr2O7透明陶瓷制备的一种方法。本发明是采用Gd2Zr2O7粉作为原料粉,并添加少量(≤2.5%)的Y2O3、La2O3、HfO2混合物作为烧结助剂,通过球磨混合后制成素坯,再通过相对较低温度下(1650℃-1750℃)真空无压单步烧结,即可获得具有良好的光学透过率Gd2Zr2O7透明陶瓷。
搜索关键词: 一种 空无 烧结 制备 gd base sub
【主权项】:
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