[发明专利]相移掩模坯料、相移掩模、曝光方法以及器件制造方法在审

专利信息
申请号: 201980059790.1 申请日: 2019-05-20
公开(公告)号: CN112689796A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 小泽隆仁;宝田庸平;林贤利;八神高史 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F1/32 分类号: G03F1/32;C23C14/06;G03F1/54
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 于洁;庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种相移掩模坯料,其是具有基板及形成于上述基板上的相移层的相移掩模坯料,上述相移层含有铬及氧,上述相移层的表面的算术平均高度的值为0.38nm以上。
搜索关键词: 相移 坯料 曝光 方法 以及 器件 制造
【主权项】:
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