[实用新型]真空腔室用输送装置和半导体处理设备

摘要

本实用新型公开了一种真空腔室用输送装置和半导体处理设备。输送装置包括若干个并排间隔设置的输送滚轮；至少一个纠偏机构，位于待输送件的外侧，纠偏机构包括水平纠偏组件，其包括第一安装座、第一水平导向轮、第一水平轴、第二安装座、第二水平导向轮和第二水平轴；第一水平导向轮通过第一水平轴与第一安装座可转动连接；第二水平导向轮通过第二水平轴与第二安装座可转动连接；第一水平导向轮和第二水平导向轮沿平行于待输送件的传输方向两侧相对间隔设置，且第一水平轴和第二水平轴均垂直于传输方向。这样，如果待输送件在水平方向上发生偏移，水平导向轮会向待输送件提供纠偏力以阻止待输送件发生偏移，提高待输送件的输送精度。

主权项

1.一种真空腔室用输送装置，其特征在于，包括：若干个输送滚轮，用于输送待输送件，所述若干个输送滚轮并排间隔设置；至少一个纠偏机构，所述纠偏机构位于所述待输送件的外侧，所述纠偏机构包括水平纠偏组件，所述水平纠偏组件包括第一安装座、第一水平导向轮、第一水平轴、第二安装座、第二水平导向轮和第二水平轴；其中，所述第一水平导向轮通过所述第一水平轴与所述第一安装座可转动连接；所述第二水平导向轮通过所述第二水平轴与所述第二安装座可转动连接；所述第一水平导向轮和所述第二水平导向轮沿平行于所述待输送件的传输方向两侧相对间隔设置，且所述第一水平轴和所述第二水平轴均垂直于所述传输方向。