[发明专利]一种压差调控+电磁扰动制备均一金属颗粒的装置有效

专利信息
申请号: 201911344572.0 申请日: 2019-12-23
公开(公告)号: CN110842209B 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 雷永平;王同举;林健;李康立;袁涛;符寒光 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: B22F9/08 分类号: B22F9/08
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张立改
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种压差调控+电磁扰动制备均一金属颗粒的试验装置,涉及一种射流模式的微喷装置。该装置提供适用于微焊球(如锡及其合金)及其它金属颗粒的高频高质制备。技术方案是:所述装置包括电磁力发生器,压控系统,温控系统和成球系统。该方法属于一种非接触直驱式连续喷射均一金属颗粒制备技术。通过合理匹配压差参数和脉冲电磁扰动参数(电流频率、电流波形、电流的幅值和磁场强度)以实现均一金属颗粒的高频高质制备,该方法简单易行。
搜索关键词: 一种 调控 电磁 扰动 制备 均一 金属 颗粒 装置
【主权项】:
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