[发明专利]一种表面高密度位错的NCM三元正极材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201911333077.X 申请日: 2019-12-23
公开(公告)号: CN110970616B 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 苏岳锋;张其雨;陈来;卢赟;吴锋 申请(专利权)人: 北京理工大学重庆创新中心;北京理工大学
主分类号: H01M4/505 分类号: H01M4/505;H01M4/525;H01M4/62;H01M10/0525
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 管高峰
地址: 401120 重*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种表面高密度位错的NCM三元正极材料的制备方法。所述方法是首先将NCM三元正极材料浸泡在酸性缓冲溶液中一定时间,在随后的惰性气体氛围中退火煅烧时,调控煅烧时间及温度并最终在材料表面形成大量氧空位。氧空位的形成导致材料表面层状结构出现高密度位错。高密度位错的交割作用会抑制在长循环充放电过程中由于材料颗粒相互挤压产生的位错向材料内部移动,因此材料的颗粒完整性得到保持;同时颗粒的完整性减少了材料新鲜表面的暴露,降低电解液对正极材料的侵蚀,同时降低界面副反应,从而提高材料在循环充放电过程中的循环稳定性。本发明所示方法中所用原料无毒环保,符合绿色化学的要求,操作简单,便于实施,具有良好的工业应用前景和经济效益。
搜索关键词: 一种 表面 高密度 ncm 三元 正极 材料 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学重庆创新中心;北京理工大学,未经北京理工大学重庆创新中心;北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911333077.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top