[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201910763909.5 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN110429061B 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 钱海蛟;姜涛;高锦成;陈亮 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12;G03F7/16
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;胡影
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种显示基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,为解决通过一次构图工艺同时形成层叠设置的两层功能图形时,无法实现上层功能图形和下层功能图形精确的尺寸对应关系,导致对显示基板的工作性能产生影响的问题。所述制作方法包括:在基底上依次形成层叠设置的第一过渡功能图形、第二过渡功能图形和光刻胶图形,光刻胶图形覆盖第二过渡功能图形的边缘区域;对光刻胶图形进行烘烤,使部分光刻胶图形覆盖第二过渡功能图形的侧表面;以烘烤后的光刻胶图形为掩膜,对第二过渡功能图形进行湿法刻蚀,形成第二目标功能图形,并对第一过渡功能图形进行刻蚀,形成第一目标功能图形。本发明提供的制作方法用于制作显示基板。
搜索关键词: 一种 显示 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:在基底上依次形成层叠设置的第一过渡功能图形、第二过渡功能图形和光刻胶图形,所述光刻胶图形覆盖所述第二过渡功能图形的边缘区域;对所述光刻胶图形进行烘烤,使部分所述光刻胶图形流动至所述第二过渡功能图形的侧面,并覆盖所述第二过渡功能图形的侧表面;以烘烤后的光刻胶图形为掩膜,对所述第二过渡功能图形进行湿法刻蚀,形成第二目标功能图形,并对所述第一过渡功能图形进行刻蚀,形成第一目标功能图形。
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  • 陈晓伦;徐永斌;赵秋森;韩笑 - 江苏新顺微电子股份有限公司
  • 2018-04-28 - 2023-07-07 - H01L21/77
  • 本发明涉及一种复合型TMBS器件结构,它包括作为基片的第一导电类型浓掺衬底;在第一导电类型的浓掺衬底上设置有第一导电类型的轻掺杂外延层;在第一导电类型的轻掺杂外延层上刻蚀形成一定间距的硅沟槽阵列,在硅沟槽的下半部分硅内侧壁上形成一定厚度的SiO2层,硅沟槽的上半部分外侧壁形成一薄层的第二导电类型的浓掺杂区;在整个硅沟槽填充满第二导电类型的浓掺杂Poly,Poly顶部表面与外延层表面齐平;在外延层和硅沟槽填充的Poly表面设置有形成肖特基结的肖特基势垒层;在肖特基势垒层上设置有作为电极金属的金属层。本发明使得TMBS器件在高反向工作电压领域相比平面肖特基二极管,仍然能够保持足够的优势或者竞争力。
  • 显示面板及其制备方法-202111486856.0
  • 胡威威 - 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2021-12-07 - 2023-07-04 - H01L21/77
  • 本申请公开了一种显示面板及其制备方法,所述制备方法包括提供一基板;在所述基板上制备出公共电极层、栅极层以及栅极绝缘层;以及在所述栅极绝缘层上制备出金属氧化物层以及数据传输层;其中,所述在所述栅极绝缘层上制备出金属氧化物层以及数据传输层的步骤包括:采用半透明光罩进行黄光工艺,定义出所述数据传输层以及所需沟道区以及像素区的光阻图案;刻蚀处理去除无所述光阻保护的膜层;灰化处理去除所述沟道区以及所述像素区上方的光阻,刻蚀处理去除所述沟道区以及所述像素区的数据传输层,只保留其上方的金属氧化物层。本申请的技术效果在于,只采用四张光罩制备出边缘场开关液晶面板,节约成本,提高制造效率同时提高显示面板的开口率。
  • 阵列基板的制备方法及阵列基板-201910768388.2
  • 颜源;艾飞;何鹏;陆鹏 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2019-08-20 - 2023-07-04 - H01L21/77
  • 本申请提供一种阵列基板的制备方法及阵列基板,该方法包括以下步骤:提供一基板;在所述基板上形成图案化的有源层;在所述有源层上形成绝缘层;在所述绝缘层上形成第一金属层,所述第一金属层包括栅极;采用同一光罩在所述第一金属层上形成图案化的层间介质层和像素电极层;在所述层间介质层上形成第二金属层,所述第二金属层包括源极、漏极和触控信号线;在所述第二金属层上形成图案化的保护层和公共电极层。本申请通过将层间介质层和像素电极层共用一光罩,形成图案化的层间介质层和像素电极层,不但节省一个光罩,而且省略了有机平坦层。
  • 阵列基板及其制备方法、显示装置-202211727293.4
  • 杨依林;康报虹 - 绵阳惠科光电科技有限公司;惠科股份有限公司
  • 2022-12-29 - 2023-06-30 - H01L21/77
  • 本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,制备方法包括:提供基板,沉积透明金属氧化物导电层;采用第一道光罩对透明金属氧化物导电层图案化形成透明导电层;对透明导电层还原形成金属反光层;沉积缓冲层和透明金属氧化物半导体层;采用第二道光罩对透明金属氧化物半导体层图案化形成第一半导体层、第二半导体层和第三半导体层;对第三半导体层还原形成漏极;沉积绝缘层与栅极金属层;采用第三道光罩图案化处理形成栅极与栅极绝缘层;对未被栅极和栅极绝缘层覆盖的部分第二半导体层与第一半导体层离子掺杂形成像素电极与像素电极连接区。通过上述方法,解决了无法在兼顾成本与保证器件稳定性的条件下提升显示装置亮度的问题。
  • 显示面板的制备方法及显示面板和显示装置-202310209517.0
  • 吴聪;李骄阳 - 合肥维信诺科技有限公司;昆山国显光电有限公司
  • 2023-03-01 - 2023-06-23 - H01L21/77
  • 本申请提供了一种显示面板的制备方法及显示面板和显示装置,涉及显示技术领域,改善了弯折区的折痕。该制备方法包括:在基板一侧表面制备第一支撑层;在第一支撑层的表面制备显示面板;去除基板。本申请提供的显示面板的制备方法,在第一支撑层的表面和显示面板的表面产生了附着力,从而取代了相关技术中用胶将第一支撑层和显示面板粘接的方案,即取代了显示面板贴附于第一支撑层表面的方案,从而减少了胶层的数量,进而降低了初始位置的胶层与当前位置的胶层的厚度差,改善了弯折区的折痕,提高了视觉体验效果。另外,减少了贴附次数,从而避免了第一支撑层与显示面板之间因贴附工艺产生的气泡,进而提高了显示装置的良率。
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