[发明专利]大口径蓝宝石窗口元件的双面高精度抛光方法

摘要

一种大口径蓝宝石窗口元件的双面高精度抛光方法，本发明不仅可以满足大口径蓝宝石窗口元件的双面反射面形优于1/3λ，表面粗糙度优于0.3nm，平行度优于0.009，表面光洁度优于Ⅲ级的加工要求，而且工艺简单，可直接在单轴抛光机上应用，对设备要求低，可加工口径范围广，生产效率高，生产成本低。

主权项

1.一种大口径蓝宝石窗口元件的双面高精度抛光方法，该方法采用单轴抛光机，其特征在于，该方法包括以下步骤：1)将大口径蓝宝石窗口元件(以下简称为元件)(5)置于单轴机抛光机的下抛光盘面(2)上，再将上抛光盘(1)压到元件的上表面，同时所述的元件置于带有圆孔连杆(3)的工件环(4)的中间，保持工件环(4)置于下抛光垫上，并与上抛光垫主轴相连；2)启动单轴抛光机，下抛光盘(2)转速由0增至30rpm，上抛光盘压力由0增至10g/cm²，单轴抛光机的上抛光盘(1)、下抛光盘(2)分别对所述的元件(5)上表面、下表面进行抛光，在元件表面粗糙度高于3nm时，使用的钻石粉抛光液粒径为1μm，且保持抛光液的添加速度为30mL/min，经过一段时间后进入步骤3)；3)将下抛光盘(2)的转速由30增至40rpm，上抛光盘压力增至10g/cm²，此过程保持使用粒径为1μm的钻石粉，且保持抛光液的添加速度为30mL/min；4))测量元件两面的粗糙度，当此时元件表面的粗糙度低于3nm时，进入下一步骤，否则，返回步骤3)；5)从当前的单轴抛光机上取下所述的元件置于另一台单轴抛光机的下抛光盘面(2)上，再将上抛光盘(1)压到元件的上表面，同时所述的元件置于带有圆孔连杆(3)的工件环(4)的中间，保持工件环(4)置于下抛光垫上，并与上抛光垫主轴相连；启动该单轴抛光机，将下抛光盘(2)的转速由40增至50rpm，上抛光盘压力增至15g/cm²，此过程中保持使用粒径为0.5μm的钻石粉抛光液，且保持抛光液的添加速度为40mL/min；6)测量元件两面的粗糙度，当元件两表面的粗糙度均满足加工要求时进入下一步，否则返回步骤5)；7)完成大口径蓝宝石窗口元件的双面高精度抛光。