[发明专利]辐射成像系统有效
| 申请号： | 201910640324.4 | 申请日： | 2019-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN110721416B | 公开（公告）日： | 2022-02-11 |
| 发明（设计）人： | 丹尼·拉普·延·李 | 申请（专利权）人： | 慧理示先进技术公司 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人： | 许伟群;周晓雨 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了辐射成像系统。一种辐射成像系统包括辐射发射装置和辐射成像装置。所述辐射成像装置具有：带有顶表面和底表面的电绝缘层、在所述电绝缘层的顶表面上的顶电极、电耦接到所述电绝缘层的像素单元的阵列、以及连接到所述像素单元的阵列的晶体管的阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 成像 系统 | ||
【主权项】：
1.一种辐射成像装置，包括：/n具有顶表面和底表面的电绝缘层；/n在所述电绝缘层的所述顶表面上的顶电极；以及/n多个像素单元，其电耦接到所述电绝缘层，并且与所述电绝缘层的所述底表面直接接触。/n
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