[发明专利]双通道干涉型高光谱成像装置及方法有效
申请号: | 201910565510.6 | 申请日: | 2019-06-27 |
公开(公告)号: | CN110307902B | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 李建欣;王宇博;许逸轩;刘杰;卫明;钱佳敏 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
主分类号: | G01J3/45 | 分类号: | G01J3/45;G01J3/12 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 马鲁晋 |
地址: | 210094 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种双通道干涉型高光谱成像装置及方法,装置包括沿光轴方向依次设置的前置成像物镜、第一滤光片阵列、光阑、准直物镜、起偏器、第二滤光片阵列、双折射剪切器阵列、检偏器、后置成像物镜和面探测器阵列。入射光经前置成像物镜成像在光阑处,通过光阑上的两片滤光片、准直物镜,变为两束不同波段的平行光,经起偏器再经两片滤光片分别入射至相应的双折射剪切器,光束被剪切为两组不同波段且具有一定光程差的偏振光,经检偏器、后置成像物镜成像在面探测器上产生两组干涉信息,最后经光谱复原得到待测目标的光谱信息。本发明采用两组双折射剪切器以在一次推扫成像中获得两组不同剪切量的干涉图,实现双通道成像,提高了光谱分辨率。 | ||
搜索关键词: | 双通道 干涉 光谱 成像 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种双通道干涉型高光谱成像装置,其特征在于,包括沿光轴方向依次设置的前置成像物镜(1)、第一滤光片阵列(2)、光阑(3)、准直物镜(4)、起偏器(5)、第二滤光片阵列(6)、双折射剪切器阵列(7)、检偏器(8)、后置成像物镜(9)和面探测器阵列(10);其中第一滤光片阵列(2)位于光阑(3)内侧;所述第一滤光片阵列(2)包括沿光轴对称设置的波段不同的第一滤光片(2‑1)、第二滤光片(2‑2),第二滤光片阵列(6)包括沿光轴对称设置的波段不同的第三滤光片(6‑1)、第四滤光片(6‑2),位于光轴同一侧的两个滤光片的波段相同,且第一滤光片(2‑1)的波段小于第二滤光片(2‑2)的波段;双折射剪切器阵列(7)包括沿光轴对称设置的第一双折射剪切器(7‑1)、第二双折射剪切器(7‑2);其中,第一双折射剪切器(7‑1)包括两片厚度均为h1的双折射剪切板,分别为沿光轴依次设置的第一双折射剪切板(7‑1‑1)和第二双折射剪切板(7‑1‑2);第二双折射剪切器(7‑2)包括两片厚度均为h2的双折射剪切板,分别为沿光轴依次设置的第三双折射剪切板(7‑2‑1)和第四双折射剪切板(7‑2‑2),且h2>h1。
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