[发明专利]基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统有效

专利信息
申请号: 201910552893.3 申请日: 2019-06-25
公开(公告)号: CN110231321B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 王宏达;邵丽娜;石岩;初宏亮;王慧利;孙佳音 申请(专利权)人: 中国科学院长春应用化学研究所
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G02B21/00
代理公司: 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 代理人: 李外
地址: 130000 吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,涉及微观粒子超分辨成像技术领域,解决现有活体细胞在单分子尺度下的成像问题。包括扫描光学系统;Z轴扫描探测系统;倒置荧光显微成像系统以及自动定焦和锁焦系统。由纳米孔—微透镜产生的超衍射极限聚焦光斑激发样品的荧光信号,根据纳米孔—微透镜Z轴扫描探测系统确定纳米孔—微透镜聚焦光斑和样品之间距离,控制三维压电陶瓷位移台实现对样品的三维方向扫描,自动定焦和锁焦系统确定显微镜和样品的焦面以及锁定该焦面,最后利用倒置荧光显微镜对样品的超分辨成像。本发明所述的基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微镜可以应用于活体细胞内部的单分子成像。
搜索关键词: 基于 纳米 透镜 扫描 分辨 显微 成像 系统
【主权项】:
1.基于纳米孔—微透镜扫描超分辨显微成像系统,包括扫描光学系统、Z轴扫描控制系统、倒置荧光显微成像系统以及自动定焦和锁焦系统,其特征是;所述纳米孔—微透镜产生的超衍射极限聚焦光斑激发样品的荧光信号,根据纳米孔—微透镜Z轴扫描控制系统确定纳米孔—微透镜聚焦光斑和样品之间距离,控制三维压电陶瓷位移台实现对样品的三维方向扫描,自动定焦和锁焦系统确定显微物镜和样品的焦面并锁定该焦面,最后采用倒置荧光显微镜对样品的超分辨成像;所述扫描光学系统包括激光器(4)、偏振片(5)、第一聚焦透镜(6)、第一光纤耦合器(7)、扫描探针(8)和三维压电陶瓷位移台(9);所述Z轴扫描控制系统包括近红外激光器(10)、衰减片(11)、第二聚焦透镜(12)、第一光纤环形器端口(13)、第二光纤环形器端口(14)、第三光纤环形器端口(15)和雪崩二极管(16);所述倒置荧光显微成像系统包括显微物镜(18)、Z轴压电陶瓷(19)、二向色镜(20)、发射滤光片(21)、第三聚焦透镜(22)和传感器(23);所述自动定焦和锁焦系统包括激光二极管(24)、空间滤波器(25)、准直器(26)、半透半反滤光片(27)、长波通滤光片(28)、第四聚焦透镜(29)和线阵CCD(30);调整激光器(4)发出可见单色激光经偏振片(5)和第一聚焦透镜(6)后通过光纤耦合器(7)传输至扫描探针(8);所述激光经过扫描探针(8)照射样品(17),由样品(17)产生的荧光通过显微物镜(18)汇聚,然后经过二向色镜(20)透射,发射滤光片(21)滤光以及经第三聚焦透镜(22)聚焦后由传感器(23)接收;所述三维压电陶瓷位移台(9)对样品扫描过程中,每移动一个点发送一个数字触发信号,所述数据采集卡根据接收的触发信号向传感器(23)发送采集数据控制信号;所述扫描探针(8)固定在三维压电陶瓷位移台(9)上,显微物镜(18)固定在Z轴压电陶瓷(19)上;近红外激光器(10)出射激光经过衰减片(11)和第二聚焦透镜(12)进入第一光纤环形器端口(13),第一光纤环形器端口(13)将激光传输至第二光纤环形器端口(14),第二光纤环形器端口(14)探测样品(17)的后向散射光,所述后向散射光经第三光纤环形器端口(15)后由雪崩二极管(16)探测接收;所述雪崩二极管(16)根据接收的光强信号转换为电信号发送至数据采集卡,根据对电信号的处理和分析控制三维压电陶瓷位移台(9),实现对样品的三维方向扫描,并确定纳米孔—微透镜聚焦光斑和样品之间距离;所述激光二极管(24)产生的近红外激光经过空间滤波器(25)变成高斯点光源,所述点光源入射到准直器(26)变成平行光,所述平行光经过半透半反滤光片(27)和长波通滤光片(28)后由二向色镜(20)反射至显微物镜(18),并到达样品(17)表面,所述样品(17)被激发后产生的发射激光由显微物镜(18)接收并到达焦面,经焦面反射的光经长波通滤光片(28)和半透半反滤光片(27)后经第四聚焦透镜(29)反射进入线阵CCD(30);所述线阵CCD(30)接收焦面反射的光信号并传至数据采集卡,根据信号特征进行数据分析和处理,并发送控制信号至Z轴压电陶瓷(19),所述Z轴压电陶瓷(19)控制显微物镜(18)的Z轴方向移动,实现自动对焦和锁焦。
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