[发明专利]一种透明薄膜缺陷形态测量方法及系统有效
| 申请号： | 201910122114.6 | 申请日： | 2019-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN109978824B | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 邓元龙;钟小品;潘喜洲 | 申请（专利权）人： | 深圳大学 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T5/00;G06V10/764;G06V10/77;G06V10/774;G06V10/766 |
| 代理公司： | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人： | 王永文;刘文求 |
| 地址： | 518060 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种透明薄膜缺陷形态测量方法及系统，所述方法包括以下步骤：在透明薄膜的缺陷饱和图像空间使用嵌入分析得到关于缺陷形态参数的流行空间；在流行空间中建立回归模型并进行样本训练；将待测透明薄膜使用同样的映射投影到流行空间，并利用回归模型得到缺陷形态。由于在低维的空间使用支持向量回归以建立饱和成像与缺陷形态参数的关系，把这种回归关系应用于新的缺陷饱和成像样本即可估测缺陷形态，满足了自动化识别缺陷的需求，又极大提高了质检效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透明 薄膜 缺陷 形态 测量方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种透明薄膜缺陷形态测量方法，其特征在于，包括以下步骤：在样本透明薄膜的缺陷饱和图像空间使用嵌入分析得到关于缺陷形态参数的流行空间；在流行空间中建立回归模型并进行样本训练；将待测透明薄膜使用同样的映射投影到流行空间，并利用回归模型得到缺陷形态并输出。
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