[发明专利]用于测量涂层的厚度的设备有效

专利信息
申请号: 201880003195.1 申请日: 2018-08-14
公开(公告)号: CN109791046B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 克里斯蒂安·捷普;麦克·里克特;约翰·赫因肯 申请(专利权)人: 微-埃普西龙测量技术有限两合公司
主分类号: G01B15/02 分类号: G01B15/02
代理公司: 深圳永慧知识产权代理事务所(普通合伙) 44378 代理人: 宋鹰武
地址: 德国奥*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于确定导电基板上的介电层的厚度的测量设备。该设备包括用于电磁场的谐振腔,该谐振腔具有旋转对称壁、端板和敞开端,并且适于被定位成使敞开端在介电层上。该设备还包括:天线,该天线适于在谐振腔中激发电磁场;反射测量单元,该反射测量单元用于确定电磁场的至少一种特性;以及评估电路,该评估电路用于根据电磁场的至少一种特性确定介电层的厚度。旋转对称壁的直径在谐振腔的纵向方向上变化。
搜索关键词: 用于 测量 涂层 厚度 设备
【主权项】:
1.一种用于确定导电基板(18)上的介电层(16)的厚度的测量设备,包括:用于电磁场的谐振腔(2),所述谐振腔具有旋转对称壁(4)以及与敞开端(8)相反的端板(6),其中,所述谐振腔(2)适于被定位成使所述敞开端(8)位于在所述基板(18)上的所述介电层(16)上,使得所述基板创建所述谐振腔的壁;天线(10),所述天线适于在所述谐振腔中激发电磁场;反射测量单元(12),所述反射测量单元连接至所述天线(10)并且被配置成确定所述谐振腔(2)中的所述电磁场的至少一种特性;以及评估电路(14),所述评估电路连接至所述反射测量单元(12)并且被配置成根据所述电磁场的所确定的至少一种特性来确定所述介电层(16)的厚度;其中,所述旋转对称壁(4)的直径在所述谐振腔(2)的纵向方向上从所述敞开端(8)到所述端板(6)进行变化。
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