[实用新型]一种容性耦合装置及滤波器有效

专利信息
申请号: 201821455241.5 申请日: 2018-09-06
公开(公告)号: CN208806343U 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 许建军;朱晖 申请(专利权)人: 武汉凡谷电子技术股份有限公司
主分类号: H01P1/208 分类号: H01P1/208
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 黄行军
地址: 430020 湖北省武汉市江夏区光*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开了一种容性耦合装置及滤波器。它包括多个实心的介质单体,相邻的介质单体之间拼接连接,至少一个相邻介质单体的拼接面上设置有容性耦合结构,所述容性耦合结构包括第一盲孔和表面未金属化的第一空气耦合窗口,所述第一盲孔的深度大于等于所述第一空气耦合窗口深度的1/2且小于第一空气耦合窗口深度,所述第一盲孔的内壁上设置有金属屏蔽层,所述第一空气耦合窗口设置于第一盲孔的两侧及底部。本实用新型多个介质单体之间拼接连接,在拼接面上设置盲孔及空气耦合窗口实现两腔之间的耦合,该结构用于滤波器中,可以在滤波器的通带低端形成传输零点,增加了滤波器的矩形系数,从而提高滤波器性能,降低滤波器的体积。
搜索关键词: 滤波器 空气耦合 盲孔 拼接 介质单体 容性耦合结构 容性耦合装置 本实用新型 金属屏蔽层 传输零点 矩形系数 通带低端 相邻介质 耦合 金属化 实心的 内壁
【主权项】:
1.一种容性耦合装置,其特征在于:包括多个实心的介质单体,相邻的介质单体之间拼接连接,至少一个相邻介质单体的拼接面上设置有容性耦合结构,所述容性耦合结构包括第一盲孔和表面未金属化的第一空气耦合窗口,所述相邻介质单体的拼接面的一侧沿竖向对应位置处设有相匹配的半凹槽,两个相匹配的半凹槽拼接后形成所述第一盲孔,所述第一盲孔的深度大于等于所述空气耦合窗口深度的1/2且小于第一空气耦合窗口深度,所述第一盲孔的内壁和底部上设置有金属屏蔽层,所述第一空气耦合窗口设置于第一盲孔的两侧及底部。
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