[实用新型]一种用于半导体清洗设备的搅拌装置有效
申请号: | 201820995740.7 | 申请日: | 2018-06-25 |
公开(公告)号: | CN208437343U | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 成春芳 | 申请(专利权)人: | 世巨科技(合肥)有限公司 |
主分类号: | B08B3/10 | 分类号: | B08B3/10;B08B13/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 231500 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于半导体清洗设备的搅拌装置,本实用新型包括FR‑FX1N微型可编程控制器、清洗筒和水泵,清洗筒侧壁上竖向固定有侧左旋喷头组,侧左旋喷头组和侧左旋喷头组之间所在的清洗筒侧壁上安装有侧右旋喷头组,清洗筒外侧壁右侧固定有FR‑FX1N微型可编程控制器,清洗筒内侧底面外沿安装有底左旋喷头,清洗筒下部固定有控制箱,控制箱内部左侧安装二位三通阀,控制箱内部右侧安装有水泵。本实用新型通过设置FR‑FX1N微型可编程控制器、清洗筒和水泵,解决了传统清洗筒内搅拌桨叶占用空间较大,对半导体进行清洗时需用摆放架摆放半导体,半导体从摆放架上脱落与搅拌桨叶触碰而发生损坏的问题。 | ||
搜索关键词: | 清洗筒 喷头组 左旋 微型可编程控制器 本实用新型 控制箱 水泵 半导体清洗设备 半导体 搅拌桨叶 搅拌装置 摆放架 侧壁 喷头 二位三通阀 内侧底面 竖向固定 占用空间 外侧壁 触碰 外沿 右旋 清洗 摆放 | ||
【主权项】:
1.一种用于半导体清洗设备的搅拌装置,包括FR‑FX1N微型可编程控制器(3)、清洗筒(5)和水泵(7),其特征在于:所述清洗筒(5)侧壁上竖向固定有侧左旋喷头组(1),所述侧左旋喷头组(1)设置有五个,且均匀布置在清洗筒(5)侧壁上,所述侧左旋喷头组(1)和侧左旋喷头组(1)之间所在的清洗筒(5)侧壁上安装有侧右旋喷头组(2),所述侧右旋喷头组(2)设置有五个,且均匀布置在清洗筒(5)侧壁上;所述清洗筒(5)外侧壁右侧固定有FR‑FX1N微型可编程控制器(3),所述清洗筒(5)内侧底面外沿安装有底左旋喷头(9),所述底左旋喷头(9)设置有五个,且均匀布置在清洗筒(5)内侧底面上,所述底左旋喷头(9)所在的清洗筒(5)内侧底面位置处内侧安装有底右旋喷头(8),所述底右旋喷头(8)设置有五个,且均匀布置在清洗筒(5)内侧底面上,所述清洗筒(5)下部固定有控制箱(4);所述控制箱(4)内部左侧安装二位三通阀(6),所述控制箱(4)内部右侧安装有水泵(7)。
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