[实用新型]一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置有效
| 申请号： | 201820898348.0 | 申请日： | 2018-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN208860744U | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 赵永强;李群英 | 申请（专利权）人： | 上海光谱仪器有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/73 | 分类号： | G01N21/73;G01N21/01 |
| 代理公司： | 上海天翔知识产权代理有限公司 31224 | 代理人： | 刘常宝 |
| 地址： | 201709 上海市青*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置，所述气体控制装置包括：等离子气控制系统，所述等离子气控制系统直接设置在等离子气体的输气管路上；辅助气控制系统，所述辅助气控制系统直接设置在辅助气体的输气管路上；雾化气控制系统，所述雾化器控制系统直接设置在雾化气体的输气管路上；控制器，所述控制器分别与等离子气控制系统、辅助气控制系统和雾化气控制系统控制连接。本实用新型结构简单、操作方便、工作稳定有效，可实现单气体输入和流量等的自动控制。 | ||
| 搜索关键词： | 控制系统 辅助气控制系统 气体控制装置 等离子气 输气管路 直接设置 本实用新型 控制器 雾化气 等离子气体 辅助气体 工作稳定 控制连接 雾化气体 雾化器 | ||
【主权项】：
1.一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置，其特征在于，所述气体控制装置包括：等离子气控制系统，所述等离子气控制系统直接设置在等离子气体的输气管路上；辅助气控制系统，所述辅助气控制系统直接设置在辅助气体的输气管路上；雾化气控制系统，所述雾化气控制系统直接设置在雾化气体的输气管路上；控制器，所述控制器分别与等离子气控制系统、辅助气控制系统和雾化气控制系统控制连接。
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