[实用新型]印制品结构有效
| 申请号： | 201820772250.0 | 申请日： | 2018-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN208290626U | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 王大训 | 申请（专利权）人： | 成都通通印防伪票证标签有限公司 |
| 主分类号： | B32B3/30 | 分类号： | B32B3/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610097 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及印制品结构。所述印制品结构，包括承印层，印墨层和覆膜层；与印墨层接触的承印层的上表面设置有若干第一环形凹凸结构，与印墨层接触的覆膜层的下表面设置有若干第二环形凹凸结构；第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的位置相互交错设置，以锁定印墨层。本实用新型印制品结构可以有效减少覆膜层从印制品上剥离，印墨层淡化的情况，从而提高印制品的保存年限。 | ||
| 搜索关键词： | 印制品 印墨层 环形凹凸结构 覆膜层 本实用新型 承印层 交错设置 有效减少 上表面 下表面 剥离 锁定 淡化 保存 | ||
【主权项】：
1.印制品结构，其特征在于：包括承印层，印墨层和覆膜层；与印墨层接触的承印层的上表面设置有若干第一环形凹凸结构，与印墨层接触的覆膜层的下表面设置有若干第二环形凹凸结构；第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的位置相互交错设置，以锁定印墨层。
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