[实用新型]光触媒流体处理装置有效
| 申请号： | 201820652609.0 | 申请日： | 2018-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN208856946U | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 丁初稷;黄昱文 | 申请（专利权）人： | 丁初稷;福兴洋有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/30 | 分类号： | C02F1/30;C02F1/72;C02F101/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李坤 |
| 地址： | 中国台湾嘉义*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光触媒流体处理装置，用于处理一污染流体，包括：一导管，包含一反应空间、一进口、以及一出口；一光源管，设置于该反应空间中，并提供一光源；以及多个光触媒块材，填充于该反应空间中并围绕该光源管，且包含一石英基材、以及一光触媒薄膜披覆于该石英基材表面。其中，该光触媒块材经该光源照射而具有反应活性；该流体由该进口进入该反应空间并接触该光触媒块材以进行反应，经反应所得的一净化流体由该出口离开该反应空间。 | ||
| 搜索关键词： | 反应空间 光触媒块 流体处理装置 石英基材 光触媒 光源管 流体 光触媒薄膜 反应活性 光源照射 污染流体 导管 披覆 光源 进口 填充 出口 净化 | ||
【主权项】：
1.一种光触媒流体处理装置，用于处理一流体，该光触媒流体处理装置包括：一导管，包含一反应空间、一进口、以及一出口；一光源管，设置于该反应空间中，并提供一光源；以及多个光触媒块材，填充于该反应空间中并围绕该光源管，且各该光触媒块材包含一石英基材、以及一光触媒薄膜披覆于该石英基材表面；其中，该光触媒块材经该光源照射而具有反应活性；该流体由该进口进入该反应空间并接触该光触媒块材以进行反应，经反应所得的一净化流体由该出口离开该反应空间。
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