[实用新型]一种铜盘研磨盘有效
申请号: | 201820157763.0 | 申请日: | 2018-01-30 |
公开(公告)号: | CN207971845U | 公开(公告)日: | 2018-10-16 |
发明(设计)人: | 白林森;梁莲芝 | 申请(专利权)人: | 无锡市恒利弘实业有限公司 |
主分类号: | B24D5/02 | 分类号: | B24D5/02;C23C28/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214412 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供一种铜盘研磨盘,该铜盘研磨盘由下至上依次包括报废铜盘、表面处理层、化学镀镍层、电镀铜层,所述电镀铜层表面设有凹槽,本实用新型将已达到报废极限的铜盘研磨盘,即报废铜盘,加以重新修复,再次利用,得到的铜盘研磨盘性能优异,大大提高了使用寿命,降低了生产成本,节约了大量有色金属资源,其电镀铜层表面平滑致密,显微硬度较高,内应力低,无针孔,无缺陷,镀层与基体结合力较强,完全能够满足研磨的使用条件。 | ||
搜索关键词: | 铜盘 研磨盘 电镀铜层 本实用新型 报废 针孔 致密 表面处理层 化学镀镍层 基体结合力 表面平滑 使用寿命 显微硬度 再次利用 研磨 镀层 生产成本 修复 节约 | ||
【主权项】:
1.一种铜盘研磨盘,其特征在于所述铜盘研磨盘由下至上依次包括报废铜盘(1)、表面处理层(2)、化学镀镍层(3)、电镀铜层(4),所述电镀铜层(4)表面设有凹槽(5),所述电镀铜层(4)的厚度大于报废铜盘(1)的厚度,所述凹槽(5)的深度为0.1~0.3mm,槽间距为2~4mm,所述凹槽(5)在电镀铜层上的形状为等距同心圆或阿基米德螺旋线形的连续凹槽。
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