[发明专利]一种改善印刷过墨性的防断栅结构设计方法在审
| 申请号： | 201811553430.0 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN111341854A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 陆家圆;李志斌 | 申请（专利权）人： | 浙江鸿禧能源股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/0224 | 分类号： | H01L31/0224 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 314205 浙江省嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种改善印刷过墨性的防断栅结构设计方法，包括副栅（1）、主栅（2）和防断栅（3），其特征在于所述的防断栅（3）为S形或者锯齿形，进一步地，所述的S形结构防断栅的弧度（R）为大于等于2π/3，且小于π；所述的锯齿形防断栅的相邻两边的夹角θ为大于等于120º，且小于180º。本发明的有益效果是有效地降低了粗线比例，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 印刷 防断栅 结构设计 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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