[发明专利]一种反应型碱溶性树脂、包含其的树脂组合物及用途有效
| 申请号： | 201811540386.X | 申请日： | 2018-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN111324011B | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | 侯少堃;刘永祥;桑伟;刘嵩 | 申请（专利权）人： | 北京鼎材科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004;C08F222/14;C08F220/06;C08F212/08;G02F1/1335;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 100192 北京市海淀区西*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种反应型碱溶性树脂、包含其的感光性树脂组合物及用途，所述反应型碱溶性树脂包括至少一个结构单元(A)、至少一个结构单元(B)和至少一个结构单元(C)，所述感光性树脂组合物按重量份包括如下组分：所述反应型碱溶性树脂1～30重量份、不反应型碱溶性树脂1～30重量份、引发剂0.1～10重量份。所述感光性树脂组合物具有显影性佳、线宽优异、耐热性良好、分辨率高、开孔清晰且像素边缘整齐等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反应 型碱溶性 树脂 包含 组合 用途 | ||
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- 本发明涉及光学材料领域，尤其涉及一种高分辨率负性光刻胶，丙烯酸改性的环氧树脂这种碱溶性负型光刻胶以丙烯酸将丙烯酸作为引入双键的成分，每当引入一个双键，便会消耗一个羧基，很难保证成膜树脂在显影液中的溶解性，易造成具有较高的LER和较低的分辨率；成膜树脂中含有较多的环氧官能团，大大降低了成膜树脂与硅片的附着力，对光刻图形的分辨率十分不利。基于上述问题，本发明提供一种高分辨率负性光刻胶，在光敏树酯的侧链中引入较为丰富的羟基官能团和刚性结构，采用两种活性稀释剂复配，使得光敏树脂获得合适交联密度，有效改善了光敏树脂在硅片上的附着力，大大提高了光刻图像的分辨率，使得光刻图像具有较小的LER。
- 一种用于台面器件的高涂布均匀性负性光刻胶组合物-201911044928.9
- 马骥 - 苏州瑞红电子化学品有限公司
- 2019-10-30 - 2023-05-02 - G03F7/038
- 本发明涉及一种用于台面器件的高涂布均匀性负性光刻胶组合物，包括环化聚异戊二烯：重均分子量范围为20W~30W，分子量分布Mw/Mn范围为1.0～2.0，环化率55%~85%；环化聚丁二烯：重均分子量范围为2W~4W，分子量分布Mw/Mn范围为1.2～2.4，环化率60%~80%；光敏剂：所述光敏剂为2，6‑二[（4‑叠氮基苯基）亚甲基]‑4‑甲基‑环己酮；偶联剂。该组合物有效保护台面芯片各个位置的衬底，不出现腐蚀钻蚀问题且不出现浮胶、显影不净等质量异常问题。
- Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用-202111245430.6
- 方书农;王溯;耿志月;崔中越 - 上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司
- 2021-10-26 - 2023-04-28 - G03F7/038
- 本发明公开了Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用。本发明具体公开了一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物由下述原料制得，所述的原料包括下列以重量份计的组分：80～150份的树脂A、5～20份的树脂B、5～15份的树脂C、3～10份的光酸产生剂、2～10份的交联剂、0.5～2.5份的酸扩散抑制剂和500～2000份的溶剂；其中，所述树脂A和所述树脂C的重量份数的比例为20:3～20:1，所述树脂B和所述树脂C的重量份数的比例为1:2～2:1；所述树脂A为取代苯乙烯树脂，由结构单元
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