[发明专利]方酸鎓系色素、树脂膜、光学滤波器和摄像装置有效

专利信息
申请号: 201811323873.0 申请日: 2016-02-16
公开(公告)号: CN109320992B 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 盐野和彦;松浦启吾;保高弘树 申请(专利权)人: AGC株式会社
主分类号: C09B23/10 分类号: C09B23/10;C09B57/00;C09B67/22;C09D5/32;C09D7/41;C09D145/00;C09D167/00;C09D169/00;C09D201/00;G02B5/20;G02B5/22;H01L27/146
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 苗堃;金世煜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种光学滤波器,具备吸收层,该吸收层含有近红外线吸收色素,该近红外线吸收色素在二氯甲烷中的吸收特性满足下述条件。在波长400~800nm的吸收光谱中,在670~730nm具有最大吸收波长λmax。在波长430~550nm的光的最大吸光系数εA与波长670~730nm的光的最大吸光系数εB之间,以下关系式:εBA≥65成立。在光谱透射率曲线中,将最大吸收波长λmax处的透射率设为10%时,在最大吸收波长的短波长侧透射率为80%的波长λ80与最大吸收波长λmax之差为65nm以下。
搜索关键词: 方酸鎓系 色素 树脂 光学 滤波器 摄像 装置
【主权项】:
1.一种式(AI)或式(AII)所示的方酸系色素,其中,式(AI)和式(AII)中的符号如下所述,X独立地为1个以上的氢原子可以被卤素原子、碳原子数1~12的烷基或烷氧基取代的下述式(1)或式(2)所示的2价的有机基团,-(CH2)n1-(1)式(1)中,n1为2或3,-(CH2)n2-O-(CH2)n3-…(2)式(2)中,n2和n3各自独立地为0~2的整数,n2+n3为1或2,R1独立地表示式(4-2)所示的基团,式(4-2)中,R13、R14和R15独立地表示氢原子、卤素原子或碳原子数1~4的烷基,其中,R13、R14和R15不全部为氢原子,当R13、R14和R15中的两个为氢原子时,另一个为卤素原子,当R13、R14和R15中的一个为氢原子时,另两个独立地为卤素原子或碳原子数1~4的烷基,R2独立地为1个以上的氢原子可以被卤素原子、羟基、羧基、磺基或氰基取代且在碳原子间可以含有不饱和键、氧原子、饱和或者不饱和的环结构的碳原子数1~25的烃基,R3、R4、R5和R6独立地表示氢原子、卤素原子或者碳原子数1~10的烷基或烷氧基,n为2或3。
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