[发明专利]一种GFF结构触摸屏用全激光工艺的制作方法

摘要

一种GFF结构触摸屏用全激光工艺的制作方法，本方法由两部分组成：1、激光蚀刻工艺专用的GFF结构上下层ITO图形和银浆图形；2、激光蚀刻银浆图层和ITO图层的工艺参数。通过采用专用的GFF结构上下层的ITO图形和银浆图形进行同步一次性激光蚀刻出ITO图形和银浆图形，减少了工艺流程提高了产品的生产效率和良率，在蚀刻过程中无酸碱溶剂不会造成环境的污染且无需增加纯水清洗系统节省了纯水资源及制水系统的成本；对ITO图形和银浆图形的同步蚀刻避免了图形之间的套版或搭接尺寸的需求结合超细激光蚀刻银浆和超细激光蚀刻设备的采用可以极大的减少GFF结构两侧的边框尺寸实现全面屏需求的GFF超窄边框产品。

主权项

1.一种GFF结构触摸屏用全激光工艺的制作方法，其特征在于，本方法由两部分组成：S1、激光蚀刻工艺专用的GFF结构上下层ITO图形和银浆图形：GFF结构触摸屏由玻璃盖板、上层OCA光学胶层、上层触控层、下层OCA光学胶层、下层触控层组成，玻璃盖板的左右两侧的边框市场需求越来越窄实现超窄边框触控模组；上层或下层触控层由ITO膜材的PET基材、透明ITO层、丝印在ITO层上的银浆层组成，其中透明ITO层上需要蚀刻ITO图形，丝印在ITO层上的银浆层需要蚀刻银浆图形，蚀刻工艺采用激光的方法进行蚀刻；S2、激光蚀刻银浆图层和ITO图层的工艺参数：银浆图层和ITO图层在激光设备上分属于两个不同的图层且每层图层的工艺参数可以分别设定，由于ITO图层的材质为ITO，银浆图层的材质为银浆，不同的材质需采用不同的工艺参数。