[发明专利]一种磁隧道结制作方法在审

专利信息
申请号: 201811298680.4 申请日: 2018-11-02
公开(公告)号: CN111146334A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 车东晨;刘自明;蒋中原;王珏斌;崔虎山;胡冬冬;陈璐;邹志文;孙宏月;许开东 申请(专利权)人: 江苏鲁汶仪器有限公司
主分类号: H01L43/12 分类号: H01L43/12;H01L43/08
代理公司: 北京得信知识产权代理有限公司 11511 代理人: 孟海娟;崔建丽
地址: 221300 江苏省徐州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种磁隧道结制作方法,所使用的刻蚀装置包括样品装载腔室、真空过渡腔室、反应离子等离子体刻蚀腔室、离子束刻蚀腔室、镀膜腔室以及真空传输腔室,在不中断真空的情况下,利用反应离子等离子体刻蚀腔室、离子束刻蚀腔室和镀膜腔室相结合对磁性隧道结进行刻蚀、清洗和镀膜保护。本发明能够有效降低器件损伤和沾污,避免过刻造成的影响,提高器件性能,同时能够精确控制刻蚀图形的陡直度,获得满足性能需求的图形结果。
搜索关键词: 一种 隧道 制作方法
【主权项】:
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