[发明专利]一种适用于非对称视场的拼接式相机的实验室检校方法有效
| 申请号： | 201811209270.8 | 申请日： | 2018-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN109188852B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 钟灿;刘秀;李重阳;尚志鸣;文高进;李辰;王洪民 | 申请（专利权）人： | 北京空间机电研究所 |
| 主分类号： | G03B43/00 | 分类号： | G03B43/00 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 武莹 |
| 地址： | 100076 北京市丰*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种适用于非对称视场的拼接式相机的实验室检校方法，首先使用二维转台测量像高值和角度值，并对中心成像相机观测值赋权，采用精密测角法解算中心成像相机，进而计算中心不成像相机的观测值，然后对中心不成像相机观测值赋权，采用精密测角法解算中心不成像相机，最后通过得到的中心成像相机、中心不成像相机的内方位元素计算得到拼接式相机的整体内方位元素，完成适用于非对称视场的拼接式相机的实验室检校。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 对称 视场 拼接 相机 实验室 校方 | ||
【主权项】：
1.一种适用于非对称视场的拼接式相机的实验室检校方法，其特征在于包括如下步骤：(1)使用二维转台测量像高值和角度值；(2)对中心成像相机观测值赋权；(3)采用精密测角法解算中心成像相机；(4)计算中心不成像相机的观测值；(5)对中心不成像相机观测值赋权；(6)采用精密测角法解算中心不成像相机；(7)对步骤(3)、步骤(6)得到的内方位元素计算得到拼接式相机的整体内方位元素，完成适用于非对称视场的拼接式相机的实验室检校。
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