[发明专利]光学准直结构及其制作方法、指纹识别装置在审
| 申请号： | 201811184918.0 | 申请日： | 2018-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN109239938A | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 海晓泉;董学;王海生;王雷;李昌峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/30 | 分类号： | G02B27/30;G06K9/00 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;阚梓瑄 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种光学准直结构、其制作方法以及指纹识别装置。该光学准直结构包括：第一光学准直层，包括交替设置的多个第一透光墙和多个第一阻光墙；第二光学准直层，与所述第一光学准直层层叠设置，并包括交替设置的多个第二透光墙和多个第二阻光墙，其中，所述第一阻光墙与所述第二阻光墙交叉设置以限定出用于光准直的多个透光区。该光学准直结构在结构上使新颖的并且易于制造。 | ||
| 搜索关键词： | 准直 阻光 指纹识别装置 交替设置 透光墙 准直层 交叉设置 光准直 透光区 制作 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光学准直结构，其特征在于，包括：第一光学准直层，包括交替设置的多个第一透光墙和多个第一阻光墙；第二光学准直层，与所述第一光学准直层层叠设置，并包括交替设置的多个第二透光墙和多个第二阻光墙；其中，所述第一透光墙与所述第二透光墙交叉设置以限定出用于光准直的多个透光区。
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