[发明专利]一种液晶偏振光栅制备方法在审

专利信息
申请号: 201811184443.5 申请日: 2018-10-11
公开(公告)号: CN109116635A 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 郭琦;陈达;吴凡;徐东;孙凌豪;赵慧洁 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/13363
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种液晶偏振光栅制备方法,提供了一种基于双折射棱镜进行偏振操控的制备方法,该方法简便可行,为制备液晶偏振光栅提供了一种新思路。液晶偏振光栅可应用于增强现实、液晶显示和高光谱遥感等领域。所述方法的核心技术在于由偏振片、双折射棱镜以及1/4波片组成的曝光光路。在入射光为蓝紫激光时,出射光为偏振方向随位置连续变化的线偏振光。通过照射光敏取向层,可实现偏振光栅所需求的液晶分子取向排布。该方法的优点在于其使用的器件数量少,光路简单;光栅周期易于调节,简便灵活;且元件易获得,成本较低。是一种具有实用价值的偏振光栅制备方案。
搜索关键词: 液晶偏振光栅 制备 偏振光栅 棱镜 双折射 偏振 液晶分子取向 高光谱遥感 光敏取向 光栅周期 核心技术 曝光光路 线偏振光 液晶显示 增强现实 出射光 偏振片 入射光 紫激光 波片 操控 光路 排布 照射 灵活 应用
【主权项】:
1.一种液晶偏振光栅制备方法,其特征在于,该方法使用双折射棱镜等元件组成偏振调制光路,将入射蓝紫激光转化为起偏方向随位置连续变化的线偏光,满足偏振光栅在光控取向中所对应的偏振态分布,照射光敏涂层进行取向。
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