[发明专利]一种水果萝卜高产的种植方法在审

专利信息
申请号: 201811151844.0 申请日: 2018-09-30
公开(公告)号: CN109042197A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 梁晓英;覃兴辉 申请(专利权)人: 广西走山农牧开发有限公司
主分类号: A01G22/25 分类号: A01G22/25;A01C21/00;C05G1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 545003 广西壮*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明涉及种植领域,特别是涉及一种水果萝卜高产的种植方法。包括以下步骤:选择水果萝卜良种、合理密植、整地和土壤消毒、沟底施肥、晒种、播种、肥料管理、杂草管理、铺反光膜、收获;本发明所述的一种水果萝卜高产的种植方法,通过在胡萝卜种植过程中进行合理追肥,铺设反光膜,能够促进水果萝卜生长,从而提高水果萝卜的产量,产出的水果萝卜具有丰富的口感和优良的品质,追肥中氮磷钾的合理配比,大大提高了肥料利用率,促使水果萝卜的肉质根加速生长,从而大大提高本发明的产量。
搜索关键词: 水果萝卜 种植 追肥 反光膜 高产 肥料利用率 肥料管理 合理密植 合理配比 土壤消毒 杂草管理 生长 氮磷钾 肉质根 胡萝卜 晒种 整地 播种 施肥 铺设 收获
【主权项】:
1.一种水果萝卜高产的种植方法,其特征在于,包括以下步骤:1)选择水果萝卜良种;2)合理密植,垄作种植,等行距1垄四行,垄距53‑56cm,垄顶宽30‑40cm,垄底宽40‑50cm,垄高20‑25cm,小行距8‑12cm,每亩播0.18—0.2公斤种子;3)整地和土壤消毒,深翻土地35‑40cm,土地均匀撒生石灰进行消毒,5‑7天后,再浅耕10‑12cm;4)沟底施肥,掏沟,沟宽8‑10cm,深12‑14cm,均匀施用有机肥撒于沟中后,进行覆土;5)晒种,将水果萝卜种子置于阳光下晒10‑12小时,在晒种时每隔1‑2小时翻动一次;浸种,将晒后的水果萝卜种子,倒入温度为28‑32℃,质量浓度为1.87%的氯化钾与氯化钠混合溶液中浸泡12‑14小时后,过滤,自然晾干,其中,氯化钾与氯化钠按1:2质量比例混合而成;6)播种,4月中下旬开始播种,采用水果萝卜点播机,每孔播水果萝卜种子一粒;7)肥料管理:第一次追肥:水果萝卜长出3‑4片真叶后,施农家肥、磷钾肥、速效氮肥;第二次追肥:水果萝卜定苗后,施硫酸铵、钾肥、硼肥;第二次追肥:水果萝卜根系膨大期,施硫酸镁、过磷酸钙、甲壳素、硼肥、微量元素;8)杂草管理:水果萝卜苗3‑4片真叶时,浅耕除草一次,浅耕的深度为5‑6cm,浅耕之后,喷洒质量浓度为0.34%的碳酸钠溶液;9)铺反光膜:将反光膜铺在垄坡的两侧;10)当水果萝卜外表饱满、表皮光滑,肉质饱满即可收获。
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