[发明专利]一种纳米限域原位生长制备ZIF-8@氧化石墨烯杂化膜的方法有效

专利信息
申请号: 201811076622.7 申请日: 2018-09-14
公开(公告)号: CN109012224B 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 安全福;张文海;金成刚;王乃鑫;纪树兰 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: B01D69/12 分类号: B01D69/12;B01D71/02;B01D67/00;B01D61/02;C02F1/44;C02F101/38
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张立改
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种纳米限域原位生长制备ZIF‑8@氧化石墨烯杂化膜的方法,属于膜分离领域。主要包括以下步骤:对多孔基膜进行预处理,去除其表面有机物、无机物和微生物;将GO粉末分散在去离子水中,利用超声离心的方式,配置GO分散液;采用抽滤沉积的方式,将GO组装至多孔基膜表面,制备湿态的GO复合膜;将所得的湿态GO复合膜利用冷冻干燥技术制备出疏松结构的GO复合膜;将六水合硝酸锌和2‑甲基咪唑配置成ZIF‑8前驱体溶液;将前驱体溶液填充至膜内和表面,并采用碱液成核结晶,构建ZIF‑8@f‑GO杂化膜。用于水中染料、高价盐、有机体系中小分子的分离以及气体分离,具有良好的分离性和稳定性。
搜索关键词: 一种 纳米 原位 生长 制备 zif 氧化 石墨 烯杂化膜 方法
【主权项】:
1.采用冷冻干燥技术与原位杂化生长途径协同构建具有可控分离通道结构的ZIF‑8@氧化石墨烯杂化即ZIF‑8@f‑GO分离膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)对多孔基膜进行预处理,去除其表面有机物、无机物和微生物;(2)将GO粉末分散在去离子水中,利用超声离心的方式,配置GO分散液;(3)通过抽滤沉积的方式,将GO组装至多孔基膜表面,制备湿态的GO膜;(4)将步骤(3)所得的湿态GO复合膜利用冷冻干燥技术制备出疏松结构的GO复合膜(f‑GO);(5)将六水合硝酸锌和2‑甲基咪唑按照一定摩尔比例配置ZIF‑8前驱体溶液;(6)将(5)中配制的前驱体溶液在步骤(4)所得的疏松结构的GO复合膜(f‑GO)内和表面进行填充,然后在碱液中成核结晶,构建ZIF‑8@氧化石墨烯(ZIF‑8@f‑GO)杂化膜。
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