[发明专利]一种用于浮动微调平台的双向微调系统在审
| 申请号： | 201810984363.1 | 申请日： | 2018-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN110860809A | 公开（公告）日： | 2020-03-06 |
| 发明（设计）人： | 刘建军 | 申请（专利权）人： | 武汉斯利沃激光器技术有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/70 | 分类号： | B23K26/70;B24B41/02;B23Q1/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 430012 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于浮动微调平台的双向微调系统，应用于机械二微进给工作台上，所述双向微调系统包括浮动微调平台的双向铰链结构、铰链延长轴，所述双向微调系统包括铰链转页、角度偏摆力臂，且均按其对应位置各自均装设在机械二微进给工作台和机座之间，所述双向微调系统使机械二微进给工作台和机座之间，处于一种浮动连接状态，使浮动微调平台具有X、Y两个方向角度微调的自由度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 浮动 微调 平台 双向 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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