[发明专利]一种加热型氢化硅薄膜滤光片在审

专利信息
申请号: 201810791461.3 申请日: 2018-07-18
公开(公告)号: CN110737041A 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 吴砺;张建英;林磊;苏炎;刘哲;于光龙 申请(专利权)人: 福州高意光学有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28
代理公司: 35211 福州君诚知识产权代理有限公司 代理人: 戴雨君
地址: 350000 福建省福州*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种加热型氢化硅薄膜滤光片,其包括基片、加热膜层和标准具腔体,标准具腔体和加热膜层从上至下依次设置在基片的上端面,所述标准具腔体的顶部和底部分别具有高反膜系,高反膜系由多个高折射率膜层和多个低折射率膜层交替堆叠而成,所述标准具腔体的材料为SiH。本发明中的标准具腔体采用SiH材料替换α‑Si,由于SiH材料的热光系数比α‑Si大,可以补充800nm‑1100nm波段的透过,将现有透过波长范围扩大至800nm‑4000nm。
搜索关键词: 标准具 腔体 加热膜层 高反膜 低折射率膜层 高折射率膜层 氢化硅薄膜 从上至下 范围扩大 交替堆叠 热光系数 依次设置 加热型 滤光片 上端面 波长 波段 替换 补充
【主权项】:
1.一种加热型氢化硅薄膜滤光片,其特征在于:其包括基片、加热膜层和标准具腔体,标准具腔体和加热膜层从上至下依次设置在基片的上端面,所述标准具腔体的顶部和底部分别具有高反膜系,高反膜系由多个高折射率膜层和多个低折射率膜层交替堆叠而成,所述标准具腔体的材料为SiH。/n
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