[发明专利]一种含氧化石墨烯的无机高发射率涂层的制备方法

摘要

一种含氧化石墨烯的无机高发射率涂层的制备方法，它涉及一种无机高发射率涂层的制备方法。本发明是要解决现有的无机高发射率涂层发射率低的技术问题。本发明：一、球磨；二、涂层浆料的制备；三、掺入氧化石墨烯；四、烧结。本发明添加氧化石墨烯，氧化石墨烯具有高的发射率、大比表面积、好的导热性能和良好的水溶性。利用氧化石墨烯中C＝C键的高辐射系数提高涂层的发射率；氧化石墨烯较大的比表面积，为涂层微纳米颗粒提供大量的附着点，石墨烯片状层状结构，可提高涂层的内界面，增加辐射波在涂层内部的反射吸收次数，实现涂层发射率的提高。

主权项

1.一种含氧化石墨烯的无机高发射率涂层的制备方法，其特征在于含氧化石墨烯的无机高发射率涂层的制备方法是按以下步骤进行如下：一、球磨：将MgB2O5晶须粉体和SiO2粉体均以320转/分钟～350转/分钟的转速分别进行湿混球磨8h～9h，将球磨之后的两个浆料分别通过100目的分样筛过滤，将球料分离，过滤后的两个浆料分别在60℃～80℃的干燥箱中烘干，获得两个料饼，将两个料饼分别研碎后放入干燥箱中烘干1h～1.5h，分别得到球磨后的SiO2粉体和球磨后的MgB2O5晶须粉体；球磨SiO2粉体时，按照质量配比为SiO2粉体：磨球：水＝1:2:1；球磨MgB2O5晶须粉体时，按照质量配比为MgB2O5晶须粉体：磨球：水＝1:5:1；二、涂层浆料的制备：将步骤一得到的球磨后的SiO2粉体、球磨后的MgB2O5晶须粉体、Na2SiO3和B4C混合，得到涂层粉料，涂层粉料以220转/分钟～240转/分钟的转速湿混球磨4h～4.5h，球磨后的浆料过100目的分样筛过滤，将球料分离，获得SiO2基高发射率涂层用混合浆料；所述的涂层粉料中SiO2质量占比为30％～40％，MgB2O5质量占比35％～40％，Na2SiO3质量占比为15％～20％，B4C质量占比为10％～20％；球磨涂层粉料时，按照质量配比为涂层粉料：磨球：水＝1:2:1；三、掺入氧化石墨烯：将步骤二得到的SiO2基高发射率涂层用混合浆料和氧化石墨烯混合均匀，再以800转/分钟～1000转/分钟的转速搅拌20min～30min，将搅拌后的浆料进行超声分散1h～1.5h，得到含氧化石墨烯的涂层浆料；所述的氧化石墨烯的质量为步骤二得到的SiO2基高发射率涂层用混合浆料的1％～10％；四、烧结：将步骤三得到的含氧化石墨烯的涂层浆料喷涂到合金基体表面，喷涂的厚度为5μm‑80μm，在温度为700℃～900℃的条件下进行气氛保护烧结或真空烧结2h～6h，在气氛保护或真空条件下冷却至室温，得到含氧化石墨烯的无机高发射率涂层。