[发明专利]紫外红外双色探测器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201810442396.3 申请日: 2018-05-10
公开(公告)号: CN108417660B 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 张志伟;陈一仁;李志明;谬国庆;蒋红;宋航 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H01L31/103 分类号: H01L31/103;H01L31/0336;H01L31/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 赵焕;李海建
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明公开了一种紫外红外双色探测器及其制作方法,其中,紫外红外双色探测器包括衬底层、生长在衬底层上的GaN缓冲层、生长在GaN缓冲层上的GaN吸收层及生长在GaN吸收层上的TMDCs盖层。由于GaN具有宽禁带性能,可对紫外波段进行吸收,GaN外延的TMDCs层可以对红外波段的光进行探测,本申请提供的紫外红外双色探测器实现同时对红外和紫外波段的光进行探测。
搜索关键词: 紫外 红外 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种紫外红外双色探测器,其特征在于,包括:衬底层(1);生长在所述衬底层(1)上的GaN缓冲层(2);生长在所述GaN缓冲层(2)上的GaN吸收层(3);及生长在所述GaN吸收层(3)上的TMDCs盖层(4)。
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