[发明专利]二维全息投影显示方法及系统有效

专利信息
申请号: 201810341650.0 申请日: 2018-04-17
公开(公告)号: CN108519730B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 石炳川 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03H1/22 分类号: G03H1/22;G03B21/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张润
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出一种二维全息投影显示方法及系统,其中,二维全息投影显示方法包括:空间光调制器在长度方向上划分为第一调制区域和第二调制区域,第一入射光束以第一入射角度照射所述第一调制区域,在成像面上形成第一投影区域;第二入射光束以第二入射角度照射所述第二调制区域,在所述成像面上形成第二投影区域,所述第二投影区域与所述第一投影区域在所述空间光调制器的长度方向上紧密贴合或部分重合,拼接形成接近矩形的影像区域。本发明提出的二维全息投影显示方法及系统,避免了计算资源和空间光调制器的空间带宽积的浪费,且可以形成适合人的观看习惯的影像区域。
搜索关键词: 调制区域 二维全息 投影区域 投影显示 空间光调制器 入射光束 影像区域 入射角 成像 照射 空间带宽积 观看习惯 光调制器 计算资源 紧密贴合 所述空间 重合 拼接
【主权项】:
1.一种二维全息投影的显示方法,其特征在于,空间光调制器在长度方向上划分为第一调制区域和第二调制区域,所述显示方法包括:第一入射光束以第一入射角度照射所述第一调制区域,在成像面上形成第一投影区域;第二入射光束以第二入射角度照射所述第二调制区域,在所述成像面上形成第二投影区域,所述第二投影区域与所述第一投影区域在所述空间光调制器的长度方向上紧密贴合或部分重合,拼接形成接近矩形的影像区域;对所述第一调制区域加载的图像编码,进行与所述第一投影区域的图像畸变相反的图像校正处理,使得所述第一投影区域校正为矩形区域;对所述第二调制区域加载的图像编码,进行与所述第二投影区域的图像畸变相反的图像校正处理,使得所述第二投影区域校正为矩形区域;其中,校正后的所述第一投影区域和校正后的所述第二投影区域拼接形成矩形的影像区域,所述校正后的所述第一投影区域、所述校正后的所述第二投影区域和所述矩形的影像区域的短边长度,均等于所述第一投影区域和所述第二投影区域在所述空间光调制器的宽度方向上的长度的最小值。
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