[发明专利]一种应用于PECVD成膜的基座

摘要

本发明提供了一种应用于PECVD成膜的基座，用于对一衬底进行沉积成膜，基座包括基座本体、设置于基座本体下方用于支撑基座本体的底座，以及一动力单元，基座本体上沿其延伸方向依次间隔开设有至少三个开孔，每个开孔内均安装有一支撑单元，至少三个支撑单元用于共同支撑衬底；至少三个支撑单元均与动力单元连接，动力单元用于驱动每个支撑单元相对于基座本体升降。本发明提供了一种应用于PECVD成膜的基座，通过设置至少三个支撑单元对衬底进行支撑，除了两端的两个支撑单元支撑衬底的两端外，还有一个支撑单元位于衬底的中部下方进行辅助的支撑，有效避免了现有技术中只有两个goft tee分别支撑衬底两端，由于衬底中间下垂量较大可能产生的破片现象的发生。