[发明专利]一种共焦双抛物面天线有效
| 申请号： | 201810326293.0 | 申请日： | 2018-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN108649345B | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 王楠;欧乃铭;吴亮;王文涛;郎宇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电子学研究所 |
| 主分类号： | H01Q19/19 | 分类号： | H01Q19/19;H01Q21/00 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 王军红;张颖玲 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种共焦双抛物面天线，所述共焦双抛物面天线至少包括：主反射面、副反射面以及馈源，其中：所述主反射面和所述副反射面相对设置且共焦；其中，所述主反射面和所述副反射面均为抛物面，且所述主反射面和所述副反射面的焦点相同；所述馈源为能够进行二维电子扫描的有源相控阵馈源，设置在所述副反射面前端。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 共焦双 抛物面天线 | ||
【主权项】：
1.一种共焦双抛物面天线，其特征在于，所述共焦双抛物面天线至少包括：主反射面、副反射面以及馈源，其中：所述主反射面和所述副反射面相对设置且共焦；其中，所述主反射面和所述副反射面均为抛物面，且所述主反射面和所述副反射面的焦点相同；所述馈源为能够进行二维电子扫描的有源相控阵馈源，设置在所述副反射面前端。
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