[发明专利]一种二次光栅型光子筛有效
申请号: | 201810200096.4 | 申请日: | 2018-03-12 |
公开(公告)号: | CN108445568B | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 成雪清;周鹏云;陈雅丽;唐霞梅;梁军;李祥;潘科;谭依玲 | 申请(专利权)人: | 西南化工研究设计院有限公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 余小飞;房云 |
地址: | 610225 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: |
本发明提供一种二次光栅型光子筛,属于衍射光学元件设计技术领域。所述光子筛包括透明衬底层以及位于透明衬底层上的金属层,所述金属层上分布有若干个小孔;所述小孔的中心距离光子筛中心的距离为rn: |
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搜索关键词: | 光子筛 小孔 透明衬底层 光栅型 金属层 刻槽 亮环 衍射光学元件设计 垂直光轴 三维成像 中心距离 光栅 成像面 物平面 成像 制作 | ||
【主权项】:
1.一种二次光栅型光子筛,其特征在于,所述光子筛包括透明衬底层以及位于透明衬底层上的金属层,所述金属层上分布有若干个小孔;所述小孔的位置需同时满足以下条件:所述小孔的中心距离光子筛中心的距离为rn:
上式中,n为环带数,f为光子筛焦距,λ为光子筛的设计波长;所述小孔位于二次光栅的亮环内,亮环由圆弧刻槽组成,各个圆弧刻槽的中心半径为:
上式中,m是刻槽数,R是二次光栅的口径的半径,W20是二次光栅的离焦系数,d0是光栅中心处的周期。
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