[发明专利]一种具有D-π-A结构的化合物及其制备方法和应用在审
申请号: | 201810081235.6 | 申请日: | 2018-01-29 |
公开(公告)号: | CN108409750A | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 邓国伟;赵紫羽;周召琼;李秉轲;杨敏;张小玲;孙康;李仲辉 | 申请(专利权)人: | 成都师范学院 |
主分类号: | C07D495/22 | 分类号: | C07D495/22;C07D495/04;C07D519/00;C09K11/06;G02F1/361 |
代理公司: | 上海诺衣知识产权代理事务所(普通合伙) 31298 | 代理人: | 韩国辉 |
地址: | 610020 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有D‑π‑A结构的化合物及其制备方法和应用。本发明以引达省衍生物作为π共轭电子桥,并在其两端引入给电子基团和吸电子基团,从而制备具有D‑π‑A结构的非线性光学发色团。发色团较长的共轭长度使得其具备较大的一阶超极化率(β),进而可以制备高性能有机电光材料。本发色团具有较大的分子量,除了可与聚合物掺杂制备薄膜以外,还可直接用有机溶剂溶解、涂旋制备薄膜,为器件化过程提供了极大便利。本发明的发色团还具备较高的热分解温度和玻璃化温度,从而使得非线性光学发色团分子在材料中具备极好的取向稳定性,更大程度满足器件化要求。 | ||
搜索关键词: | 发色团 制备 非线性光学发色团 制备方法和应用 器件化 薄膜 一阶超极化率 有机电光材料 有机溶剂溶解 给电子基团 共轭电子桥 聚合物掺杂 取向稳定性 吸电子基团 制备高性能 玻璃化 热分解 共轭 引入 便利 | ||
【主权项】:
1.一种具有D‑π‑A结构的化合物,其特征是:所述化合物具有如下式I的结构:
式I其中,D为电子给体;A为电子受体;所述的引达省衍生物骨架具有以下结构:
。
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