[发明专利]X射线成像装置及其控制方法有效
申请号: | 201810072030.1 | 申请日: | 2018-01-25 |
公开(公告)号: | CN108338803B | 公开(公告)日: | 2023-06-13 |
发明(设计)人: | 朴旻澈;李宗河;金东昱;郑银美 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邵亚丽 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开提供了一种X射线成像装置及其控制方法,用于引导用户直观地识别X射线的实际剂量并选择适当的剂量,最终提供通过向用户提供关于X射线过滤器效应被反映到其的实际X射线剂量的信息来实现低剂量的X射线照射的条件。根据本公开的一个方面,一种X射线成像装置包括,X射线源,被配置为根据X射线照射条件生成并照射X射线,所述X射线照射条件包括管电压、管电流、暴露时间或过滤器中的至少一个;显示器,被配置为提供图形用户界面以接收关于X射线照射条件的选择;以及控制器,被配置为基于所选择的X射线照射条件来获得表示过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数,并控制显示器显示参数。 | ||
搜索关键词: | 射线 成像 装置 及其 控制 方法 | ||
【主权项】:
1.一种X射线成像装置,包括:X射线源(110),被配置为根据包括管电压、管电流、暴露时间或过滤器中的至少一个的X射线照射条件来生成和照射X射线;显示器(150),被配置为提供图形用户界面以接收关于所述X射线照射条件的选择;以及控制器(140),被配置为基于所选择的X射线照射条件获得表示过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数,并且控制所述显示器显示所述参数。
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