[发明专利]黑体辐射源及黑体辐射源的制备方法在审
申请号: | 201810027825.0 | 申请日: | 2018-01-11 |
公开(公告)号: | CN110031108A | 公开(公告)日: | 2019-07-19 |
发明(设计)人: | 魏洋;王广;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | G01J5/00 | 分类号: | G01J5/00;G01J5/52 |
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地址: | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种黑体辐射源及一种黑体辐射源的制备方法。所述黑体辐射源包括一黑体辐射腔,该黑体辐射腔具有一内表面,其中,所述黑体辐射腔的内表面设置多个碳纳米管,且该多个碳纳米管的延伸方向基本垂直于所述黑体辐射腔的内表面。所述黑体辐射源的制备方法包括以下步骤:提供一黑体辐射腔,该黑体辐射腔具有一内表面;在所述黑体辐射腔的内表面形成多个碳纳米管,该多个碳纳米管的延伸方向基本垂直于所述黑体辐射腔的内表面。该黑体辐射源以碳纳米管材料为腔内表面材料,具有较高的发射率;且该黑体辐射源的制备方法简单、易行。 | ||
搜索关键词: | 黑体辐射腔 黑体辐射源 内表面 碳纳米管 制备 垂直 碳纳米管材料 腔内表面 发射率 延伸 | ||
【主权项】:
1.一种黑体辐射源,该黑体辐射源包括一黑体辐射腔,该黑体辐射腔具有一内表面,其特征在于,所述黑体辐射腔的内表面设置多个碳纳米管,且该多个碳纳米管的延伸方向基本垂直于所述黑体辐射腔的内表面。
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