[发明专利]静电的基层保持部在审
| 申请号： | 201780086299.9 | 申请日： | 2017-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN110431659A | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | C.弗勒特根 | 申请（专利权）人： | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 吴强;李建新 |
| 地址： | 奥地利圣*** | 国省代码： | 奥地利;AT |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于容纳和保持基层（4）的静电的基层保持部（2），所述基层保持部具有：转子（6、6'、6''、6'''），所述转子具有保持件（7、7'、7''）用于在保持面（7h、7h'、7h''）上固定所述基层（4），定子（5、5'、5''、5iii、5iv），所述定子用于容纳和支承所述转子（6、6'、6''、6'''），电极（11、11'、11''），所述电极用于产生静电的保持力以固定所述基层（4）。其中，所述定子（5、5'、5''、5iii、5iv）具有所述电极（11、11'、11''）。 | ||
| 搜索关键词： | 转子 静电 电极 基层 容纳 保持件 支承 | ||
【主权项】：
1.用于容纳和保持基层（4）的静电的基层保持部（2），具有：‑ 转子（6、6'、6''、6'''），所述转子具有保持件（7、7'、7''）用于在保持面（7h、7h'、7h''）上固定所述基层（4），‑ 定子（5、5'、5''、5iii、5iV），所述定子用于容纳和支承所述转子（6、6'、6''、6'''），‑ 电极（11、11'、11''），所述电极用于产生静电的保持力以固定所述基层（4），其特征在于，所述定子（5、5'、5''、5iii、5iV）具有所述电极（11、11'、11''）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于EV集团E·索尔纳有限责任公司，未经EV集团E·索尔纳有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780086299.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：晶圆收容容器
- 下一篇：表面改性以改进非晶硅间隙填充
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
