[发明专利]双模式调节-去调节型人工晶状体有效
| 申请号： | 201780065600.8 | 申请日： | 2017-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN109890325B | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | P·M·比尔 | 申请（专利权）人： | Z晶状体有限责任公司 |
| 主分类号： | A61F2/16 | 分类号： | A61F2/16 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李隆涛 |
| 地址： | 美国弗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 双模式调节‑去调节型人工晶状体包括：襻系统(100)，该襻系统包括具有形状记忆的多个闭合回形襻；形变式柔性光学部(105)，该形变式柔性光学部包括前光学部囊和后光学部囊，前光学部囊和后光学部囊融合在一起，在它们之间限定填充有流体的光学部囊泡，其中襻附连到光学部，允许襻的动作改变光学部的形状，双模式AD‑IOL在静置时处于完全调节构造；可连接到襻的限制环(255)以及将限制环连接到襻的突片(240)使得襻固定在AD‑IOL的去调节构造中。 | ||
| 搜索关键词： | 双模 调节 人工 晶状体 | ||
【主权项】：
暂无信息
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