[发明专利]具有动态射束尺寸限制的成像系统有效
| 申请号： | 201780060805.7 | 申请日： | 2017-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN109922734B | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | J·C·扬斯;R·范隆;N·梅托尔斯特;P·沃尔科特 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/06 | 分类号： | A61B6/06;A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 孟杰雄;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种成像系统(10)包括射束源(20)、探测器单元(30)、射束限制单元(40)以及控制单元(50)。所述射束源(20)生成射束(22)并将所述射束投射到所述探测器单元(30)上，由此生成受所述射束限制单元(40)限制的辐照场(32)。所述探测器单元(30)提供因所述射束(22)产生的图像数据。所述控制单元(50)被配置为通过选择所述探测器单元的预定图像场(34)来提供对象(60)的期望区域的图像数据。所述控制单元(50)被配置为：基于所述成像系统的取向来确定针对所述图像场(34)相对于所述辐照场的相对位置和/或相对取向的校正因子，并且控制所述射束限制单元，以便减少所述射束的横截面积。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 动态 尺寸 限制 成像 系统 | ||
【主权项】：
1.一种成像系统(10)，包括：‑射束源(20)；‑探测器单元(30)；‑射束限制单元(40)；以及‑控制单元(50)；其中，所述射束源(20)被配置为生成射束(22)并将所述射束投射到所述探测器单元(30)上，使得辐照场(32)被投射到所述探测器单元上；其中，所述射束限制单元(40)被配置为限制所述辐照场(32)；其中，所述探测器单元(30)被配置为提供因所述射束(22)被投射到所述探测器单元上而产生的图像数据；其中，所述控制单元(50)被配置为通过选择所述探测器单元的预定图像场(34)来提供图像数据，以便生成被布置在所述射束源与所述探测器单元之间的对象(60)的期望区域的图像；其中，所述控制单元(50)被配置为：基于所述成像系统的取向来确定针对所述图像场(34)相对于所述辐照场的位置和/或取向的校正因子，并且将所述校正因子应用于所述图像场(34)相对于所述辐照场(32)的所述位置和/或所述取向，使得所述图像场(34)相对于所述辐照场(32)被重新定位和/或定向；并且其中，所述控制单元被配置为控制所述射束限制单元，以便基于所述成像系统的所述取向来减小被投射到所述探测单元的所述射束的横截面积。
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